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PVD纯离子(PIC)涂层

纯离子镀膜PIC（Pure Ions Coating）技术是纯离子电弧真空镀膜的简称，是在普通离子镀的基础上发展起来的一种PVD(Physical Vapor Deposition)方式涂层技术，其配有高效的电磁过滤和扫描系统，可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%，并且可以过滤掉大颗粒，因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强，是真空镀膜的前沿技术。 纯离子涂层技术与其他真空镀膜技术相比的优点： 1、靶材激发的离子束能量和方向可调，薄膜有出众的均匀性和重复性，并且可以进行大面积镀膜，这是其他类似技术所达不到的；

2、纯离子镀膜技术还包含阳极/阴极区域复杂的电磁场设置，阴极和阳极尺寸可调，确保输出等离子为束状。这点对大面积高沉积率镀膜尤为重要；

3、纯离子镀膜技术是低温工艺，镀膜过程可以控制在70°C以下。镀膜过程中既不需要高温也不会产生高温。因此可以应用于各种低温熔解的基材上，如：塑料，橡胶等；

4、纯离子镀膜技术产生少得多的膜层颗粒。例如DLC膜，相较其他类似技术的每平方厘米约103个，纯离子镀膜技术的镀膜每平方厘米仅含有约1个宏观颗粒；

5、作为PIC重要应用之一的类金刚石DLC镀膜，膜层可以达到85%以上的（金刚石键）SP3键，其物理化学性质和金刚石极其类似，薄膜具有极高的硬度(>75 GPa)，极低的摩擦系数(< 0.1),耐腐蚀性，光学透明度等一系列优异特征。在高精加工，高精轴承，冲压模具，特别是高精相机镜头冲压等方面显示出独一无二的优势。

纯离子类金刚石DLC薄膜可以使高精钻头寿命可延长5-10倍；高精相机镜头模具寿命可延长7-10倍；在诸多极端环境军工领域，纯离子DLC薄膜以其上述物理化学性质将发挥更大的优势。 一句话概括，纯离子镀膜能过滤掉等离子体中的宏观粒子、离子团，能实现100%带电离子镀膜，所以在均匀性，致密性，结合度，改变物质表面结构和消除薄膜颗粒等方面取得里程碑式的突破。 纯离子电弧真空镀膜技术，可以在金属、金属化合物、非金属、非金属化合物或者半导体等基体上进行镀膜，镀层可以是金属、金属化合物、非金属、非金属化合物膜，既可镀单一镀层，也可镀复合镀层，还可以镀梯度镀层和纳米多层镀层。采用不同的膜材、不同的反应气体以及不同的工艺方法和参数，可以获得表面强化的硬质耐磨镀层、致密且化学性质稳定的耐蚀镀层、固体润滑镀层、各种色泽的装饰镀层以及电子学、光学、能源科学等所需的特殊功能镀层。尤其离子镀硬质耐磨镀层作为超硬抗磨损保护膜广泛应用于刀具、膜具、抗磨零件。因此，真空离子镀膜的应用范围非常广泛，而常用到的膜系包括TiN、ZrN、TiAIN、TiC、TiCN、CrN、AI2O3等。还有更坚硬的类金刚石（DLC）、TiB2和碳氮（CNX）膜。具体应用在各种材料表面处理、航空及军工 (航空发动机、高速运转轴承)、豪华汽车工业（发动机、高速运转轴承）、精密光学行业（光学企业、照相摄像机企业等)、高精机械加工行业（刀具、模具、精密机械零部件等)、太阳能/半导体行业（半导体/光伏企业及太阳能集热器企业）、消费电子及电子元器件（触屏、电脑制造企业等）、科研单位（研究所及大学实验室等）。

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